透射電子顯微鏡(Transmission Electron Microscope,簡(jiǎn)稱(chēng)TEM)，是一種以電子束為光源的基于電子顯微學(xué)的微觀(guān)物理結構分析技術(shù)，分辨率最高可以達到0.1nm左右。TEM技術(shù)的出現，大大提高了人類(lèi)肉眼觀(guān)察顯微結構的極限，是半導體領(lǐng)域不可少的顯微觀(guān)察設備，也是半導體領(lǐng)域工藝研發(fā)、量產(chǎn)工藝監控、工藝異常分析等不能缺少的設備。

     TEM在半導體領(lǐng)域具有非常廣泛的用途，如晶圓制造工藝分析、芯片失效分析、芯片逆向分析、鍍膜及刻蝕等半導體工藝分析等等，客戶(hù)群體遍布晶圓廠(chǎng)、封裝廠(chǎng)、芯片設計公司、半導體設備研發(fā)、材料研發(fā)、高?？蒲性核?。

廣電計量的TEM技術(shù)團隊由陳振博士牽頭，團隊技術(shù)骨干的相關(guān)行業(yè)經(jīng)驗均在5年以上，不僅具有豐富的TEM結果解析經(jīng)驗，還具有豐富的FIB制樣經(jīng)驗，具備7nm及以上先進(jìn)制程晶圓的分析能力及各種半導體器件關(guān)鍵結構的解析能力，目前服務(wù)的客戶(hù)遍布國內的晶圓廠(chǎng)、封裝廠(chǎng)、芯片設計公司、高?？蒲性核?，并受到客戶(hù)廣泛的認可。